特許

J-GLOBAL ID：200903082787980467

ガス仮設供給装置

発明者： 立松 隆二 ,  大津 正見 ,  三宮 毅之
出願人/特許権者： 富士工器株式会社
代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057381
公開番号（公開出願番号）：特開2002-257298
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 ガス貯槽の付属機器の修理を行うに際し、ガスの供給を停止する時間を短くすることのできるガス仮設供給装置及び既設のガス供給設備を提供する。【解決手段】 ガス貯槽20のガスを配管機器24,10を介して消費機器へ供給する既設のガス供給設備に設けられるガス仮設供給装置は、仮設容器1と仮設供給配管36とバイパス配管34と配管切替装置9とを備える。仮設容器1にガスが充填される。仮設供給配管36は、仮設容器1のガスを消費機器へ供給可能に形成される。バイパス配管34は、ガス貯槽20のガスを配管機器24,10を迂回させて消費機器へ供給可能に形成される。配管切替装置9は、仮設供給配管36又はバイパス配管34を流れるガスを選択的に消費機器へ供給可能に設けられる。

請求項（抜粋）：

ガス貯槽のガスを配管機器を介して消費機器へ供給する既設のガス供給設備に設けられるガス仮設供給装置であって、仮設容器と仮設供給配管とバイパス配管と配管切替装置とを備え、前記仮設容器には、ガスが充填され、前記仮設供給配管は、前記仮設容器のガスを前記消費機器へ供給可能に形成され、前記バイパス配管は、前記ガス貯槽のガスを前記配管機器を迂回させて前記消費機器へ供給可能に形成され、前記配管切替装置は、前記仮設供給配管又は前記バイパス配管を流れるガスを選択的に前記消費機器へ供給可能に設けられたことを特徴とするガス仮設供給装置。

IPC (3件)：

F17C 13/08 301 ,  F17C 7/00 ,  F17D 1/04

FI (3件)：

F17C 13/08 301 Z ,  F17C 7/00 A ,  F17D 1/04

Fターム (10件)：

3E072AA01 ,  3E072AA03 ,  3E072DB03 ,  3E072GA30 ,  3J071AA02 ,  3J071BB11 ,  3J071BB14 ,  3J071CC03 ,  3J071CC16 ,  3J071FF03