特許

J-GLOBAL ID：200903082789893910

光造形装置

発明者： 武久 究 ,  川久保 幸雄 ,  佐々木 弘治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058501
公開番号（公開出願番号）：特開平7-266429
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【構成】レーザ光1は凸レンズ3a、及び3bに入射し、液晶マスク4の全面に照射される。マーキングさせるパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビームスプリッタ5で反射して、結像レンズ6を通り、容器7中に満たされた紫外線硬化樹脂8に照射される。すなわち、結像レンズ6により、液晶マスク4でのパターンが紫外線硬化樹脂8の表面に転写され、パターン状に紫外光が照射された表面の薄い層が硬化し、この硬化層を上下方向に積み重ねていくことで立体モデルが形成される。【効果】消費電力を増大させずに、短時間で立体モデルを製作できる光造形装置を提供することができる。

請求項（抜粋）：

液晶マスクを用い、光源としてXeFエキシマレーザを用いたことを特徴とする光造形装置。

IPC (5件)：

B29C 67/00 ,  B23K 26/00 ,  B29C 35/08 ,  G02F 1/13 505 ,  B29K105:24