特許
J-GLOBAL ID：200903082802014513
被対象物質除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-110619
公開番号（公開出願番号）：特開平9-271731
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 被対象物質が光触媒作用により変化して付着した反応生成物を効果的に除去しうる被対象物質除去方法を提供する。【解決手段】 本発明の被対象物質除去方法は、光触媒作用を発揮する物質を含む表面層を有する部材の表面に、該光触媒の励起波長よりも短い波長の光の照射下において、被対象物質を接近させ、該被対象物質を光触媒作用により化学変化させて生成物としてこれを該表面上に捕捉し、該生成物を水で洗浄して除去する被対象物質除去方法である。上記部材表面を、水との接触角5°未満の親水性とすることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光触媒作用を発揮する物質を含む表面層を有する部材の表面に、該光触媒の励起波長よりも短い波長の光の照射下において、被対象物質を接近させ、該被対象物質を光触媒作用により化学変化させて生成物としてこれを該表面上に捕捉し、該生成物を水で洗浄して除去する被対象物質除去方法であって;上記部材表面を、水との接触角5°未満の親水性とすることを特徴とする被対象物質除去方法。
IPC (6件)：
B08B 7/04
, B01D 53/86
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 23/42
, B01J 23/62
, B01J 35/02
B08B 7/04 Z
, B01J 23/42 M
, B01J 23/62 M
, B01J 35/02 J
, B01D 53/36 H
, B01D 53/36 ZAB J
