特許

J-GLOBAL ID：200903082824857344

真空軸受装置

発明者： 平岡 大治 ,  角本 賢一 ,  山元 賢二 ,  伊藤 明生
出願人/特許権者： 光洋精工株式会社 ,  株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-284230
公開番号（公開出願番号）：特開平6-129438
出願日： 1992年10月22日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】 GaまたはGa合金からなる潤滑剤が、漏れ出ることがない真空軸受装置を提供する。【構成】 Ta,W,MoまたはMo合金からなる外輪1,内輪2の軌道部1a,2aにGaイオンを注入する。Ta,W,MoまたはMo合金からなるボール3の表面にもGaイオンを注入する。GaまたはGa合金からなる潤滑剤4は、このイオンが注入された軌道部1a,2aおよびボール3の表面に対して濡れ性が良く、長期にわたって潤滑剤4が外部に漏れ出ることを防止することができる。

請求項（抜粋）：

GaまたはGa合金を部材間の潤滑剤として用いた真空軸受装置において、上記部材の上記潤滑剤が接触する部分のうちの少なくとも一部にGaイオンが注入されていることを特徴とする真空軸受装置。

IPC (2件)：

F16C 33/66 ,  F16C 33/62

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 軸 受
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-314217   出願人：富士通株式会社
• 特開昭57-181352
  
• 特開平4-363844