特許

J-GLOBAL ID：200903082831692326

溶液スラリー重合によるポリジフェニルシルメチレンの製造方法

発明者： 村上 正志 ,  小川 ▲琢▼哉 ,  櫛引 信男
出願人/特許権者： ダウ コーニング アジア株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-244100
公開番号（公開出願番号）：特開平8-109265
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【目的】 未反応モノマーを容易に除去できる、又はこれを含まないポリジフェニルシルメチレンの製造方法を提供する。【構成】 1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンをモノマーとしてこれをジフェニルスルホンに溶解し、重合温度を後記ポリジフェニルシルメチレンが完全溶解する温度未満の温度で前記モノマーを重合させ、ポリジフェニルシルメチレンを析出させるポリジフェニルシルメチレンの製造方法。

請求項（抜粋）：

1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンをモノマーとしてこれをジフェニルスルホンに溶解し、重合温度を後記ポリジフェニルシルメチレンが完全溶解する温度未満の温度で前記モノマーを重合させ、ポリジフェニルシルメチレンを析出させることを特徴とするポリジフェニルシルメチレンの製造方法。