特許

J-GLOBAL ID：200903082834364052

X線解析装置

発明者： 上田 和浩 ,  宇佐美 勝久
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-161753
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015392
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】試料に入射したX線の回折X線,反射X線、または蛍光X線を入射角、または出射角と連動して測定する際に、入射角、または出射角を変化させても、入射X線の照射領域が試料表面で一定になる様に、または一定の試料面積から出射した様にX線が検出できるようなX線解析装置を提供する。【構成】X線源,入射X線制限スリット,試料台、出射X線制限スリット,X線検出器とを備えたX線解析装置において、入射または出射制限スリットのうち少なくとも1つのスリットの幅が試料への入射角あるいは出射角に連動して変化する入射X線または出射X線幅可変スリットを用いる。【効果】入射X線の照射領域が試料表面で一定になる様に、または一定の試料面積から出射した様にX線が検出できる。

請求項（抜粋）：

X線源と入射X線制限スリットと試料台と出射X線制限スリットとX線検出器とを備えたX線解析装置において、試料に入射したX線の回折X線,反射X線、または蛍光X線を入射角、または出射角と連動して測定する際に、入射X線の照射領域を試料表面で一定にするため、または一定の試料面積から出射した様にX線を検出するために、入射または出射制限スリットのうち少なくとも1つのスリットの幅が試料への入射角あるいは出射角に連動して変化する入射X線または出射X線の幅を可変できるスリットを有することを特徴とするX線解析装置。

IPC (4件)：

G21K 1/04 ,  G01B 15/02 ,  G01N 23/00 ,  G21K 1/06

FI (4件)：

G21K 1/04 R ,  G01B 15/02 B ,  G01N 23/00 ,  G21K 1/06 K