特許

J-GLOBAL ID：200903082854274750

気化供給装置

発明者： 高松 勇吉 ,  米山 岳夫 ,  石濱 義康
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-282746
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111644
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 半導体製造のCVD装置にCVD液体原料を気化供給する際に、気化ガス濃度の制御が容易であり、濃度の追従性がよく、変質を生じることがないとともに、CVD装置の操作条件に制約を及ぼさない気化供給装置を開発する。【解決手段】 CVD液体原料を流量制御しながら気化器に導入し、気化器内に設けられた超音波霧化素子により霧化すると同時にキャリヤーガスの旋回流で加熱気化させる装置構成とする。

請求項（抜粋）：

液体原料を気化させ気相状態で供給する装置であって、液体原料容器と、液体流量制御部と、超音波霧化素子を内蔵するとともに少なくとも1個以上の液体原料供給口とキャリヤーガス導入口および気化ガス出口を有する気化器とからなり、液体原料を気相中で霧化、気化させることを特徴とする気化供給装置。

IPC (4件)：

H01L 21/285 ,  B05B 17/06 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 S ,  B05B 17/06 ,  C23C 16/44 C ,  H01L 21/205