特許
J-GLOBAL ID：200903082858974480
磁気記録媒体の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-125601
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028120
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ中のイオンの加速方法を工夫し、絶縁性の基板に対しても硬質なカーボン(DLC)膜を形成可能とする。【解決手段】 プラズマCVD装置内のプラズマの発生領域であるプラズマ発生室(キャビティ)2に隣接する反応室1内に基板11を載置し、かつその近傍に格子状のグリッド電極12を配置してこれに負のバイアス電圧を与える電源13を接続することでイオンの加速を可能とし、硬いDLC膜を形成し得るようにする。
請求項（抜粋）：
炭化水素ガスを主原料とするプラズマCVDにより、基板に積層された磁気記録層上にカーボン系保護膜を形成する磁気記録媒体の製造装置において、プラズマCVD装置内のプラズマの発生領域であるプラズマ発生室に隣接する反応室内に基板を載置し、グリッド電極を配置してこれに負のバイアス電圧を与える電源を接続することを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, C23C 16/27
, C23C 16/511
G11B 5/84 B
, C23C 16/27
, C23C 16/511
4K030AA09
, 4K030BA27
, 4K030CA05
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA02
, 4K030GA01
, 4K030JA03
, 4K030JA17
, 4K030JA18
, 4K030KA15
, 4K030KA20
, 4K030LA20
, 5D112AA02
, 5D112AA07
, 5D112BA02
, 5D112BA03
, 5D112BC05
, 5D112FA10
, 5D112FB26
