特許
J-GLOBAL ID：200903082863662674
光照射装置と光加工装置およびその加工方法並びに電子部品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-301713
公開番号（公開出願番号）：特開2003-112280
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月15日
要約：
【要約】【課題】 光照射装置及び光加工装置において光のポインティングベクトルが変化しても、常に安定した品質の良い照射、加工を行うことを目標とする。【解決手段】 CO2レーザビーム12(a)を強度変換素子14、位相整合素子15を用いて均一な強度分布に変換し、均一な強度分布で被加工物19を加工するレーザ加工装置において、光伝送光学系13に対し、レーザビームポインティングベクトルの始点31と強度変換素子14の出射面とが互いに共役な関係になるように、光伝送光学系13を配置することで、CO2レーザビーム12(a)のポインティングベクトルが変化しても常に強度変換素子14の中心にレーザビームが入射し、安定した加工を行うことが出来る。
請求項（抜粋）：
コヒーレント光を出力する光源と、前記光源と被照射物との光路に配置した第1の光学手段と、前記第1の光学手段と被照射物との光路に配置した第2の光学手段を備え、前記第1の光学手段にとって前記第2の光学手段の入射位置と光源の光線のポインティングベクトルの始点は互いに共役になるように前記第1の光学手段を配置した光照射装置。
IPC (5件)：
B23K 26/06
, B23K 26/04
, H01S 3/00
, H01S 3/10
, B23K101:36
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 Z
, B23K 26/04
, H01S 3/00 B
, H01S 3/10 Z
, B23K101:36
4E068CA06
, 4E068CD05
, 4E068CD14
, 4E068DA09
, 5F072AA05
, 5F072JJ06
, 5F072KK09
, 5F072KK30
, 5F072SS01
, 5F072YY06
