特許

J-GLOBAL ID：200903082870952831

面位置検出装置

発明者： 水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-239012
公開番号（公開出願番号）：特開平10-082611
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構成で調整の容易な、且つ高精度に被検面の面位置を検出できる面位置検出装置を提供する。【解決手段】 格子パターン形成面8aの格子パターンの像を投射光学系9,10を介してウエハ1上の被検面1aに斜めに投射し、被検面1aからの反射光より集光光学系11,12を介して入射面25aに格子パターン像を形成し、この格子パターン像をアオリ補正プリズム25、及びリレー光学系14〜16を介して受光面17aにリレーする。格子パターン形成面8aと被検面1aとは、投射光学系9,10に関してシャインプルーフの条件を満たし、被検面1aと入射面25aとは集光光学系11,12に関してシャインプルーフの条件を満たす。投射光学系9,10を被検面1a側にテレセントリックとして、集光光学系11,12の開口数を投射光学系9,10の開口数よりも大きく設定する。

請求項（抜粋）：

第1面上に形成された所定のパターンと、被検面に対して斜めの方向から前記所定のパターンの像を投射する投射光学系と、前記被検面で反射された光束を集光して前記所定のパターンの像を第2面上に形成する集光光学系と、前記所定のパターンの像を光電的に検出する検出器と、を有し、該検出器の出力に基づいて前記被検面の面位置を検出する面位置検出装置において、前記検出器の受光面と、前記所定のパターンの像とを相対的に走査させる走査手段を設け、前記第1面と前記被検面とは、前記投射光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たすと共に、前記被検面と前記第2面とは、前記集光光学系の主平面に関してシャインプルーフの条件を満たし、前記投射光学系は、前記被検面側において実質的にテレセントリックな光学系であり、前記集光光学系は、前記投射光学系よりも大きい開口数を持つことを特徴とする面位置検出装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 526 B