特許

J-GLOBAL ID：200903082872642805

1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩の製造方法

発明者： 山本 幸司 ,  林 武夫
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314975
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131115
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、シス体とトランス体の混合物である1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンとアジピン酸を原料としてシス体濃度の高い1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩を製造する方法を提供することにある。【解決手段】 シス体濃度が40%〜85%である1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンとアジピン酸とを原料とし、当該1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンとアジピン酸の仕込みモル比を1.2/1〜1/1.2となるようにして、メタノール溶媒中で反応させ、反応物を反応液から析出後、固液分離して回収することを特徴とする、シス体濃度が90%以上である1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩の製造方法。

請求項（抜粋）：

シス体濃度が40〜85%であるシス体とトランス体の混合物からなる1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンとアジピン酸とを原料とする1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩の製造方法であって、当該混合1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンとアジピン酸の仕込みモル比を1.2/1〜1/1.2となるようにして、メタノール溶媒中でメタノール溶媒100質量部に対し当該原料が3〜100質量部になるように仕込んで反応させ、反応で生成した1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩を反応液から析出後、固液分離して回収することを特徴とする、シス体濃度が90%以上である1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン・アジピン酸塩の製造方法。

IPC (7件)：

C07C 51/41 ,  C07B 63/00 ,  C07C 51/43 ,  C07C 51/487 ,  C07C 55/14 ,  C07C209/88 ,  C07C211/18

FI (7件)：

C07C 51/41 ,  C07B 63/00 E ,  C07C 51/43 ,  C07C 51/487 ,  C07C 55/14 ,  C07C209/88 ,  C07C211/18

Fターム (12件)：

4H006AA02 ,  4H006AC47 ,  4H006AC52 ,  4H006AC90 ,  4H006AD10 ,  4H006AD15 ,  4H006AD33 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BC31 ,  4H006BC35 ,  4H006BS10