特許

J-GLOBAL ID：200903082883573465

集積型アモルフアス太陽電池の製造方法

発明者： 鈴木 康則 ,  三上 義三 ,  山本 武志
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-242597
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055612
出願日： 1991年08月28日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】 この発明は、低コストで、信頼性が高く、高出力の集積型アモルファスシリコン太陽電池を得られる集積型アモルファス太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 透光性基板1上に、短冊状にパターニングされた透明導電膜2、アモルファスシリコン膜3および裏面電極4が順次形成されたアモルファス太陽電池において、透明導電膜2のパターニングラインにそって裏面電極4側からレーザ光を照射することにより、裏面電極4と透明導電膜2をコンタクトさせる第1の工程と、そのコンタクトラインに沿って、透光性基板1側からレーザー光を照射することにより、アモルファスシリコン膜3および裏面電極4を除去する第2の工程と、裏面電極4と透明導電膜2のコンタクトラインを裏面電極4上から導電性ペースト5でスクリーン印刷を行う第3工程を備えている。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に、短冊状にパターニングされた透明導電膜、アモルファスシリコン膜および裏面電極が順次形成されたアモルファス太陽電池において、透明導電膜のパターニングラインにそって裏面電極側からレーザ光を照射することにより、裏面電極と透明導電膜をコンタクトさせる第1の工程と、そのコンタクトラインに沿って、透光性基板側からレーザー光を照射することにより、アモルファスシリコン膜および裏面電極を除去する第2の工程と、裏面電極と透明導電膜のコンタクトラインを裏面電極上から導電性ペーストでスクリーン印刷を行う第3工程を備えていることを特徴とする集積型アモルファス太陽電池の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-050381
  
• 特開昭61-006828