特許

J-GLOBAL ID：200903082884598380

転写露光装置

発明者： 河田 真太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030923
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228354
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 マスクへの塵埃等異物の付着を防止するとともに、保管時においてマスクへの水の吸着を防止することができ、さらにレチクル交換時の真空排気を容易にし、スループットの向上を図ることができる転写露光装置を提供する。【解決手段】 装置本体3のマスクチャンバー13の側方に、マスクの真空保管庫5が設けられている。この真空保管庫5は、複数段の収納台61a〜61eを備えている。各収納台61a〜61eのそれぞれには、マスク保管容器39が置がれている。マスク保管容器39の内部には台43が設けられている。この台43上にマスクを載置する。また、マスク保管容器39の一側端には、ゲートバルブ37が設けられている。同ゲートバルブ37は、マスクチャンバー13のゲートバルブ35に接続可能である。このゲートバルブ37は、通常状態では閉じており、マスク保管容器39内外を気密に遮断している。

請求項（抜粋）：

真空下でマスク上のパターンを感応基板上に転写露光する転写露光装置であって;露光に使用する複数枚のマスクを保管する真空保管庫が付設されていることを特徴とする転写露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 503 E

Fターム (12件)：

2H097BA04 ,  2H097DA20 ,  2H097LA10 ,  5F046AA21 ,  5F046DA09 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046GA07 ,  5F056CB40 ,  5F056EA12 ,  5F056EA16 ,  5F056FA10