特許
J-GLOBAL ID：200903082891075598
イオン加速装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209100
公開番号（公開出願番号）：特開平6-060836
出願日： 1992年08月05日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】 真空排気管から発生するX線の量を少なくし、外部に漏れ出るX線量を低減すること。【構成】 真空排気管12の内部に、絶縁材21に接着して取付けられ且つ中央部に孔を有する複数個の電極22を取付け、グランド側の取付フランジ23とポンプ接続管15との間にバイアス電極チャンバ39を介在させ、内部にマイナスのバイアス電極32を取付けてマイナスの電場を形成する。一方、高圧側の取付フランジ24と排気管13との間にバイアス電極チャンバ33を介在させ、内部にバイアス電極31を取付けてプラスの電場を形成する。【作用】 真空排気管12の両側にイオンと電子にとって電位的な障壁が形成されるので、電子が管壁に衝突することによって発生するX線量が低減する。
請求項（抜粋）：
内部にイオン源を有する高電圧ターミナルとその回りを囲繞するグランド電位のシールドボックスとの間に、イオン源内部を排気するための真空排気管を有するイオン加速装置において、真空排気管のグランド側のバイアス電極チャンバ内にマイナスのバイアス電極を、また高圧側のバイアス電極チャンバ内にプラスのバイアス電極をそれぞれ取付けたことを特徴とするイオン加速装置。
IPC (6件)：
H01J 37/08
, C23C 14/48
, H01J 37/18
, H01J 37/317
, H01L 21/265
, H05H 5/02
