特許
J-GLOBAL ID：200903082901655881
合成ガス製造方法および合成ガス製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117640
公開番号（公開出願番号）：特開平10-291803
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：
【要約】【課題】合成ガスの製造コストを低減し、固形炭素の析出を抑制して安定的に、かつ安全な運転ができる合成ガス製造方法および合成ガス製造装置を提供すること。【解決手段】炭化水素および/または酸素を含む炭化水素と水蒸気とから合成ガスを製造する反応を、合成ガス製造用触媒の存在下に、酸素と共に2以上の反応工程で連続して行い、いずれの反応工程においても、その反応領域内の酸素濃度を、爆発下限界の酸素濃度未満になるように調節し、最下流の反応工程で得た生成ガスが、炭化水素および/または酸素を含む炭化水素を実質的に含まないことを特徴とする合成ガス製造方法。および合成ガス製造装置。
請求項（抜粋）：
炭化水素および/または酸素を含む炭化水素、水蒸気および酸素とを反応させる際に、酸素濃度が爆発下限界を超える合成ガス製造方法であって、(A)該反応を、合成ガス製造用触媒の存在下に、連通した少なくとも2以上の反応工程で行い、(B)各反応工程で、当該反応工程の反応領域内が爆発下限界の酸素濃度未満になるように調節して、部分酸化反応と水蒸気改質反応とを同時に行い(C)最下流の反応工程で得た生成ガスが、炭化水素および/または酸素を含む炭化水素を実質的に含まないことを特徴とする合成ガス製造方法。
IPC (4件)：
C01B 3/38
, B01J 19/00
, C10G 11/20
, C10J 3/46
C01B 3/38
, B01J 19/00 E
, C10G 11/20
, C10J 3/46 Z
