特許
J-GLOBAL ID:200903082911549087
足浴器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安藤 淳二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-393655
公開番号(公開出願番号):特開2002-191521
出願日: 2000年12月25日
公開日(公表日): 2002年07月09日
要約:
【要約】【課題】大量の温水を必要とせず、浴槽内に貯められた温水を吸い込み、吸い込んだ温水を足上部に向けて噴射することで、温水量が少なくても、足の上部まで温めることができるとともに、温水を噴射して足を刺激することで得られる更なる血行促進等の効果を得ることのできる足浴器を提供する。【解決手段】 足浴器は、水を貯水する浴槽1と、浴槽1の水を吸水するとともに吸水した水を温め、その温水を流路出口21から足に向けて噴射する遠心ポンプ20と、浴槽1と遠心ポンプ20を収納する外ハウンジング2とを備える足浴器であって、遠心ポンプ20の流路出口21は、噴射する温水の拡散度を調節できる構成を備える。
請求項(抜粋):
水を貯水する浴槽と、該浴槽の水を吸水するとともに吸水した水を温め、その温水を流路出口から足に向けて噴射する循環装置と、前記浴槽と前記循環装置を収納する外ハウンジングとを備える足浴器であって、前記循環装置の流路出口は、噴射する温水の拡散度を調節できる構成を有することを特徴とする足浴器。
IPC (5件):
A47K 3/022
, A47K 3/00
, A61H 9/00
, A61H 23/00 520
, A61H 35/00
FI (5件):
A47K 3/022
, A47K 3/00 E
, A61H 9/00
, A61H 23/00 520
, A61H 35/00 F
Fターム (28件):
4C074AA03
, 4C074BB05
, 4C074CC01
, 4C074CC17
, 4C074DD10
, 4C074EE05
, 4C074GG07
, 4C074HH05
, 4C074LL10
, 4C074MM04
, 4C074NN04
, 4C074QQ24
, 4C074RR04
, 4C094AA02
, 4C094BB15
, 4C094DD14
, 4C094EE20
, 4C094EE27
, 4C094GG03
, 4C100AC03
, 4C100AC08
, 4C100BB05
, 4C100BC11
, 4C100CA17
, 4C100DA11
, 4C100EA06
, 4C100EA09
, 4C100EA12
前のページに戻る