特許

J-GLOBAL ID：200903082946988288

液体吐出装置及びレジストパターン形成方法

発明者： 井上 斉逸
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-257794
公開番号（公開出願番号）：特開2008-073647
出願日： 2006年09月22日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】レジスト液を積み重ねて所定の膜厚を有するレジストパターンを形成することができる液体吐出装置及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】配線基板2にレジスト液を吐出するヘッド12は主走査方向に複数のノズルが並べられるとともに、副走査方向に配線基板の幅に対応する長さにわたって複数のノズルが並べられ、配線基板とヘッドとを主走査方向に1回だけ走査させて配線基板の全面にレジストパターンを形成する。主走査方向に並べられたノズルのうち1列目のノズルから吐出されたレジスト液100の着弾位置には所定の時間間隔をおいてレジスト液100が配線基板2に定着した後に2列目のノズルから吐出されたレジスト液102が積層される。更に、主走査方向に並べられた異なるノズルから吐出されたレジスト液104、...が所定の時間間隔で積層されて、所望の厚みを有するレジストパターンが形成される。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

配線基板にレジスト液を吐出する複数のノズルを第1の方向に所定の配置間隔で並べたノズル群を有するヘッドと、 前記配線基板と前記ヘッドとを前記第1の方向に相対的に走査させる走査手段と、 前記ヘッドのレジスト液の吐出を制御する吐出制御手段と、 前記配線基板と前記走査手段の前記第1の方向への1回の走査で走査可能な前記配線基板の領域に対して、前記ヘッドと前記配線基板とを前記第1の方向に1回だけ相対的に走査させるように前記走査手段を制御する走査制御手段と を備え、 前記吐出制御手段は、前記配線基板の同一位置に対して前記ノズル群の異なるノズルから同一のレジスト液を所定の時間間隔で順番に吐出させて、前記配線基板の同一位置に異なるノズルから吐出されたすべてのレジスト液を積層させて、前記配線基板に所定の厚みを有し所定パターンを有するレジストパターンを形成することを特徴とする液体吐出装置。

IPC (5件)：

B05C 5/00 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00 ,  H05K 3/06

FI (5件)：

B05C5/00 101 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 Z ,  B05D7/00 H ,  H05K3/06 F

Fターム (31件)：

4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075AE05 ,  4D075CA47 ,  4D075CB38 ,  4D075DA06 ,  4D075DB06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB47 ,  4D075DB61 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA13 ,  4F041BA21 ,  4F041BA34 ,  4F042AA06 ,  4F042BA01 ,  4F042BA08 ,  5E339BD11 ,  5E339BE11 ,  5E339CC01 ,  5E339CE13 ,  5E339CF20 ,  5E339EE01 ,  5E339GG02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3744967号公報