特許
J-GLOBAL ID：200903082963772078
レーザビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-229686
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077104
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 この発明は楕円,放物線などの変形円弧パターンを高速に描画できるようなレーザビーム描画装置を提供することを主要な特徴とする。【構成】 レーザ光源1からのレーザ光を光変調器2で光変調し、ビームエキスパンダ3によって所望の太さのレーザビームに拡大し、光偏向器11によってレーザビームを角度θだけ傾くように偏向する。このレーザビームはミラー5で反射され、集光レンズ6で集光され、回転ターンテーブル9上で回転するガラス基板10に照射される。光偏向器11を制御することにより、ガラス基板10上に楕円,放物線などの変形円弧パターンを高速に描画する。
請求項（抜粋）：
感光材料の塗布された被描画物を載置して回転するターンテーブルと、前記ターンテーブルに対して相対的に移動可能であって、レーザ光を集光する集光レンズとを含み、レーザ光を微小スポットに集光して前記被描画物上に円形パターンを露光して描画するレーザビーム描画装置において、前記集光レンズの前に光偏向器を設け、レーザ光を偏向させることにより、前記被描画物上に集光したレーザスポットの位置を偏位させ、真円形から変化したパターンを描画することを特徴とする、レーザビーム描画装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 26/10 101
, G03F 1/08
, G03F 7/20 505
