特許
J-GLOBAL ID：200903082990799336

カチオン性水系ポリマーエマルション、及びそれを用いた化粧料

発明者：
金田 勇

金田 勇 について

, 
曽我部 敦

曽我部 敦 について

, 
中村 綾野

中村 綾野 について

, 
梁木 利男

梁木 利男 について


出願人/特許権者：
株式会社資生堂

株式会社資生堂 について


代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-206606
公開番号（公開出願番号）：特開2003-020314
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【課題】保存安定性が良好で、且つ塗膜の耐水性、密着性に優れたカチオン性水系ポリマーエマルションを提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも1種以上のシランカップリング剤モノマーと、少なくとも1種以上の親油性のラジカル重合性モノマーと、少なくとも1種以上の親水性のラジカル重合性モノマーとをカチオン性乳化剤で乳化重合して得られ、前記シランカップリング剤モノマーに由来する反応性シリル基が残存するポリマーが、水系分散媒中に前記シリル基間架橋を生じる濃度以下で分散されたカチオン性水系ポリマーエマルション
請求項（抜粋）：
一般式(1)に示されるシランカップリング剤モノマー(A)からなる群より選択される1種又は2種以上と、一般式(2)に示される親油性のラジカル重合性モノマー(B)からなる群より選択される1種又は2種以上と、一般式(3)に示される親水性のラジカル重合性モノマー(C)からなる群より選択される1種又は2種以上とをカチオン性乳化剤で乳化重合して得られ、モノマー(A)に由来する反応性シリル基が残存するポリマーが、水系分散媒中に前記シリル基間架橋を生じる濃度以下で分散されたカチオン性水系ポリマーエマルション。【化1】【化2】【化3】(式中のR10は水素原子あるいはメチル基を、R11はカルボキシル基、エステル基、エーテル基、アミド基、ウレタン基、及び水酸基を有する炭素数1〜6のアルキル基を示す。)
IPC (5件)：
C08F220/12 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/08 ,  C08F230:08
FI (5件)：
C08F220/12 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/08 ,  C08F230:08
Fターム (51件)：
4C083AB032 ,  4C083AB082 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AD042 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD352 ,  4C083BB34 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC39 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4J100AE03Q ,  4J100AE09Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AM19Q ,  4J100AP16R ,  4J100AQ08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA77R ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC68Q ,  4J100BC79Q ,  4J100CA05 ,  4J100FA20 ,  4J100JA61
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM