特許
J-GLOBAL ID：200903082995369933
電子線描画用マークおよび電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-075004
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274007
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【目的】高精度な検出及び補正を可能とするマークを提供し、電子線描画装置の高精度化を図る。【構成】ビーム校正の基準となる電子ビーム用マークで、基板1の厚さが電子ビームの飛程の1/2より小さい薄膜基板より構成される。【効果】基板からの反射電子強度を低減し、従来に比べ大幅なコントラストの向上を実現する。
請求項（抜粋）：
基板上の凹凸又は上記基板と反射電子強度の異なる物質により形成したビーム校正の基準となる電子ビーム用マークにおいて、上記基板の厚さが数十原子層より大きく、電子ビームの飛程の1/2より小さい薄膜基板より構成されることを特徴とする電子線描画用マーク。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 A
, H01L 21/30 506 A
, H01L 21/30 541 K
