特許

J-GLOBAL ID：200903083000911028

多層バリア膜構造、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及び製造方法

発明者： 宮寺 敏之
出願人/特許権者： パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 藤村 元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-279597
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119138
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】ガスバリア性が高い多層バリア膜構造、有機EL表示パネル及び製造方法を提供する。【解決手段】有機EL表示パネルの多層バリア膜構造は、支持基板の表面に形成されかつ、加熱又は輻射により酸素及び水などの分子の透過する数が減少する中間膜とこれを挟持して積層された無機化合物膜とからなる多層体と、支持基板の表面上で多層体を囲むように設けられかつ加熱又は輻射により中間膜から変成した封止領域と、を有する。有機EL素子とこれを担持する支持基板とからなる有機EL表示パネルの製造方法において、支持基板の表面を覆うように第1無機化合物膜を成膜し、第1無機化合物膜上に、加熱又は輻射により酸素及び水などの分子の透過する数が減少する中間膜を成膜し、中間膜上に、第2無機化合物膜を成膜し、第2無機化合物膜上に、第1及び第2表示電極並びに第1及び第2表示電極間に挟持かつ積層された有機化合物からなる1以上の有機機能層からなる有機EL素子を形成し、有機EL素子以外の周囲を加熱又は輻射して、有機EL素子を囲むように中間膜から変成した封止領域を形成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

支持基板の表面に形成されかつ、加熱又は輻射により酸素及び水などの分子の透過する数が減少する中間膜とこれを挟持して積層された無機化合物膜とからなる多層体と、前記支持基板の表面上で前記多層体を囲むように設けられかつ加熱又は輻射により前記中間膜から変成した封止領域と、を有することを特徴とする多層バリア膜構造。

IPC (4件)：

H05B33/04 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (4件)：

H05B33/04 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB11 ,  3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007AB18 ,  3K007BA07 ,  3K007BB02 ,  3K007CA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02