特許

J-GLOBAL ID：200903083001342086

電子線照射方法、その装置および照射物

発明者： 松本 真芳 ,  広瀬 健
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-141094
公開番号（公開出願番号）：特開2001-287472
出願日： 2000年05月15日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、被照射物に対して電子線を照射する方法であって、電子の散乱によって形成される電子線エネルギー分布を利用し、所望の照射領域に応じた照射を行う、つまり効率的な部分照射を行う方法を提供する。【解決手段】 電子線照射装置により、被照射物に電子線を照射する方法であって、(a)照射窓と被照射物の距離、(b)照射窓の形状および(c)照射窓と被照射物間の気体密度、から選ばれる少なくとも一つ、あるいは上記(a)、(b)または(c)から選ばれる少なくとも一つと(d)電子の加速電圧と、を制御または変更することにより、電子の散乱によって形成される電子線エネルギー分布を利用し、所望の照射領域に応じた照射を行う電子線照射方法。

請求項（抜粋）：

電子線照射装置により、被照射物に電子線を照射する方法であって、(a)照射窓と被照射物の距離、(b)照射窓の形状および(c)照射窓と被照射物間の気体密度、から選ばれる少なくとも一つ、あるいは上記(a)、(b)または(c)から選ばれる少なくとも一つと(d)電子の加速電圧と、を制御または変更することにより、所望の照射領域に応じた照射を行うことを特徴とする電子線照射方法。

IPC (8件)：

B41M 7/00 ,  A63B 37/00 ,  A63B 45/00 ,  B23K 15/00 502 ,  B41J 2/01 ,  B41M 1/40 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04

FI (10件)：

B41M 7/00 ,  A63B 37/00 E ,  A63B 45/00 B ,  B23K 15/00 502 ,  B41M 1/40 A ,  G21K 5/00 B ,  G21K 5/00 W ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/04 E ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (16件)：

2C056EA01 ,  2C056FB01 ,  2C056HA44 ,  2H113AA04 ,  2H113AA05 ,  2H113BA41 ,  2H113BB07 ,  2H113BB25 ,  2H113CA00 ,  2H113EA05 ,  2H113EA06 ,  2H113EA27 ,  2H113FA45 ,  2H113FA48 ,  4E066BB02 ,  4E066BE03