特許
J-GLOBAL ID：200903083010748168
光ディスク基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034103
公開番号（公開出願番号）：特開2001-229587
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：
【要約】【課題】 記録膜等をスパッタして成膜する時に、溝の側壁に膜が付着し難くなってスペーシング損失を容易に確保でき、もってアニール処理を必要とすることなく磁気分断を行なうことができる光ディスク基板を提供する。【解決手段】 表面に溝22とランド24が形成された光ディスク基板20において、前記溝の側壁の傾斜角度が溝深部において緩くなっており、前記ランドの上面と壁面とがなす角度θは90度〜95度の範囲内に設定されており、且つこの角度θが90度から95度になされている部分の高さAと前記溝の深さBとの比A/Bが実質的に2/3以上に設定されている。これにより、記録膜等をスパッタして成膜する時に、溝の側壁に膜が付着し難くなってスペーシング損失を容易に確保でき、もってアニール処理を必要とすることなく磁気分断を行なう。
請求項（抜粋）：
表面に溝とランドが形成された光ディスク基板において、前記溝の側壁の傾斜角度が溝深部において緩くなっており、前記ランドの上面と壁面とがなす角度θは90度〜95度の範囲内に設定されており、且つこの角度θが90度から95度になされている部分の高さAと前記溝の深さBとの比A/Bが実質的に2/3以上に設定されていることを特徴とする光ディスク基板。
IPC (2件)：
G11B 11/105 521
, G11B 7/24 531
G11B 11/105 521 F
, G11B 7/24 531 Z
5D029WB01
, 5D029WB06
, 5D075EE03
, 5D075FG18
