特許

J-GLOBAL ID：200903083011116130

静電駆動式のインクジェットヘッド

発明者： 八木 浩 ,  百瀬 芳正
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377697
公開番号（公開出願番号）：特開2002-178523
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】シリコンエッチングにより表出する結晶面の形状精度の高い、シリコン基板の加工方法、及びこの方法で形成した基板を用いた高い生産性をもつ静電駆動式のインクジェットヘッドを提供すること。【解決手段】チョクラルスキー法で製造したシリコン単結晶から作られたシリコン基板上に、熱酸化法により保護膜を形成する工程と、保護膜を部分的に除去する工程と、除去後に表出するシリコンをエッチングする工程を有するシリコン基板加工において、前記シリコン基板中に含まれる格子間酸素濃度を14×1017atoms/cm3以下とすることにより実現する。

請求項（抜粋）：

チョクラルスキー法で製造したシリコン単結晶から作られるシリコン基板上に熱酸化法により保護膜を形成する工程と、保護膜を部分的に除去する工程と、除去後に表出するシリコンをエッチングする工程を有するシリコン基板加工において、前記シリコン基板中に含まれる格子間酸素濃度が14×1017atoms/cm3以下であるシリコン基板を構成要素に含むことを特徴とする、静電駆動式のインクジェットヘッド。

IPC (4件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 A ,  H01L 21/306 B

Fターム (13件)：

2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG54 ,  2C057AP02 ,  2C057AP34 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA05 ,  2C057BA14 ,  2C057BA15 ,  5F043AA02 ,  5F043BB01 ,  5F043FF03 ,  5F043GG10