特許
J-GLOBAL ID：200903083032059250
基板のプラズマクリーニング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-251896
公開番号（公開出願番号）：特開平8-115936
出願日： 1994年10月18日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 チップを保護して基板の回路パターンをクリーニングできる基板のプラズマクリーニング装置を提供することを目的とする。【構成】 ガイド部11上に設けられた第1の電極15上にチップ12が搭載された基板13を配置し、ケース16を閉じると、ケース16の内部に設けられたカバー体24でチップ12は覆われる。そこで第1のパイプ31でケース16内のエアを吸引し、第2のパイプ32から放電ガスを供給し、第1の電極15に高周波・高圧の電圧を印加する。するとケース16内でプラズマ放電が発生し、これにより生じたイオン粒子が基板13表面の回路パターンに衝突してエッチングしクリーニングする。チップ12はカバー体24で覆われているのでイオン粒子で痛められることはない。
請求項（抜粋）：
下部材と、この下部材上に設けられた第1の電極と、この第1の電極の上方に設けられた第2の電極と、この第1の電極とこの第2の電極を覆うように前記下部材上に開閉自在に設けられたケースと、このケースを開閉する開閉手段と、このケースの内部にこのケースと一体的に設けられてこのケースが開閉することにより前記第1の電極と前記第2の電極の間に配置された基板上のチップに被蓋されるカバー体と、前記第1の電極と前記ケース内に放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、前記ケース内のエアを排出するエア排出手段とを備えたことを特徴とする基板のプラズマクリーニング装置。
IPC (4件)：
H01L 21/60 301
, H01L 21/60
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
