特許

J-GLOBAL ID：200903083035735044

X線マスクの製造方法

発明者： 矢部 秀毅 ,  松井 安次 ,  丸本 健二 ,  綾 淳 ,  橋本 素子 ,  吉岡 信行
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-268275
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082422
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】 アライメント光の透過率が上昇してアライメント効率が上昇すると共に、平坦な反射防止膜の上に形成されるX線吸収体が柱状構造になりにくく、その結果、密度の向上によるX線阻止能力の向上や、微細加工精度の向上が図れるようなX線マスクの製造方法を提供する。【構成】 凹凸を有するメンブレン2上面に液体を回転塗布しベークを行うことによって硬化させて平坦な反射防止膜5を得る工程、および上記反射防止膜上にX線吸収体4からなるマスク・パターンを形成する工程を施す。または、凹凸を有するメンブレン上にスパッタまたは蒸着により第1の反射防止膜を形成する工程、第1の反射防止膜上に液体を回転塗布しベークを行うことによって硬化させて平坦な第2の反射防止膜を得る工程、および第2の反射防止膜上にX線吸収体からなるマスク・パターンを形成する工程を施す。

請求項（抜粋）：

凹凸を有するメンブレン上面に液体を回転塗布しベークを行うことによって硬化させて平坦な反射防止膜を得る工程、および上記反射防止膜上にX線吸収体からなるマスク・パターンを形成する工程を施すX線マスクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-204919
  
• 特開平2-241019
  
• 特開平2-241020
  
• 特開平2-188909
  
• 特開昭61-032425