特許
J-GLOBAL ID：200903083045787271
中空シリカ粒子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-537790
公開番号（公開出願番号）：特表2000-500113
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】本発明は、珪酸アルカリ金属水溶液から活性シリカをシリカ以外の材料からなるコア上に沈殿させ、該材料をシリカシェルを破壊させることなく除去することによって稠密シリカシェルからんる中空粒子の製造方法を開示する。このような粒子は、絶縁材として、重合体、建築材料、ゴム、紙又は塗料のための中空充填剤として、吸収剤として、歯磨き剤又は添加剤として、活性物質の吸収及び(又は)放出のための支持体(該活性物質の放出は機械的な破裂により又は塩基性媒体中でのシリカシェルの溶解により又は拡散によりシリカシェルの破壊させることよて達成される)として、日光保護剤又は日光保護剤の支持体として、或いは液状物質の固体状での処方のために使用することができる。
請求項（抜粋）：
活性シリカを珪酸アルカリ金属Mの水溶液から、少なくとも2、好ましくは
IPC (10件)：
C01B 33/12
, B01J 20/10
, B01J 20/28
, C08K 3/36
, C09C 1/28
, C09D 7/12
, D21H 17/68
, D21H 19/40
, A61K 7/16
, A61K 7/42
C01B 33/12
, B01J 20/10 A
, B01J 20/28 A
, C08K 3/36
, C09C 1/28
, C09D 7/12 Z
, D21H 17/68
, D21H 19/40
, A61K 7/16
, A61K 7/42
