特許

J-GLOBAL ID：200903083049647555

電子ビームの電流密度制御方法および装置

発明者： 家永 勝治
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-286453
公開番号（公開出願番号）：特開平10-134745
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 再現性良く,また、試料上の電子ビームの照射範囲を変えることなく電子ビームの電流密度を制御することができる電子ビームの電流密度制御方法および装置を実現する。【解決手段】 電子銃5から発生する電子ビームの電流密度分布は、図4(b)に示すようにほぼガウス分布をしている。従って、図4(a)の実線の状態のときに最大の電流密度の電子ビームが固定絞り6の開口7を通過するとすれば、電子ビームの偏向により開口7を通過する電子ビームの電流密度は、徐々に減少し、電子ビームを大きく偏向すると、最終的には開口7を通過する電子ビームの電流量を0とすることができる。このように、2段の偏向コイル13,14に供給する偏向信号の大きさを連続的に変え、A点における電子ビームの偏向角を変えることにより、絞り6の開口を通過する電子ビームの電流密度を連続的に変えることができる。

請求項（抜粋）：

電子銃からの電子ビームの光路上に微小な開口を有した絞り手段を配置し、この絞り手段上に電子ビームを照射すると共に、電子ビームの照射位置と開口の位置とを相対的に移動させ、開口を通過する電子ビームの電流密度を制御するようにした電子ビームの電流密度制御方法。

IPC (3件)：

H01J 37/04 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/26

FI (3件)：

H01J 37/04 A ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/26