特許

J-GLOBAL ID：200903083061215423

回折格子成形型の製造方法およびフォトレジストの塗布方法と塗布装置

発明者： 秋野 正二
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-171199
公開番号（公開出願番号）：特開平6-018711
出願日： 1992年06月29日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】【構成】 石英板にイオンビームエッチングで回折格子を作成する工程と、感光性樹脂で別の石英板上にレプリカを作成する工程と、レプリカ表面にCrの離型膜を成膜する工程と、感光性樹脂で基盤上にレプリカを作成し、次いでこれをイオンビームエッチングすることにより複製型を作成する工程を含む回折格子成形型の製造方法である。また、上記石英板にフォトレジストによる回折格子を作成する場合、フォトレジストに超音波振動を印加してフォトレジストを塗布する方法および使用する塗布装置である。【効果】 回折格子成形型の製造方法は一個の回折格子板から感光性樹脂でレプリカをとりレプリカ基盤をエッチングすることで再現性の優れた廉価な耐久性のある回折格子成形型を多量に容易に作成することができる。また、フォトレジストの塗布方法および塗布装置によれば、ピンホールのない密着性のよいフォトレジストを得ることができる。

請求項（抜粋）：

第1の石英板上にイオンビームエッチング法によりフォトレジストよりなる回折格子を形成し、その上に感光性樹脂を塗布し、次にその上に第2の石英板を貼っておいて樹脂を感光硬化させ、次いで感光硬化した樹脂層と第1の石英板との間を剥離することにより第2の石英板上にレプリカを形成し、次にそのレプリカ表面にCrの離型膜を成膜し、更にその上に感光性樹脂を塗布し、次にその上に基盤を貼っておいて樹脂を感光硬化させ、次いで感光硬化した樹脂層と第2の石英板上のCr膜との間を剥離することにより基盤上にレプリカを形成し、次いでイオンビームエッチングを行って複製型を得ることを特徴とする回折格子成形型の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/16 502