特許
J-GLOBAL ID：200903083078180992
半導体製造装置の保守方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-169694
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037156
出願日： 1994年07月21日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 装置の稼働率を上げ、スループットを向上させ、メンテナンスを忘れることによる生産へのダメージを予防する。【構成】 ウェーハを指定された、又は予じめ登録された複数の異なる処理用のレシピにより処理し、イベント又はレシピの実行回数又は実行時間をカウントし、そのカウント値が設定値になった時、アラームを発生させてメンテナンス時期を報知し、あるいは予じめ登録されている保守用のレシピを自動的にスタートさせ、保守作業を自動で実施することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ウェーハを指定された複数の異なる処理用のレシピにより処理し、イベント及びレシピの実行回数及び/又は実行時間をカウントし、そのカウント値が設定値になった時、アラームを発生させてメンテナンス時期を報知し、メンテナンスを行うようにすることを特徴とする半導体製造装置の保守方法。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 14/54
, H01L 21/68
