特許

J-GLOBAL ID：200903083079964520

水素化反応用触媒、その製造法、及び該触媒を用いたカルボン酸類の水素化反応方法

発明者： 日下 晴彦 ,  高橋 裕子 ,  横竹 一郎
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-193583
公開番号（公開出願番号）：特開平10-071332
出願日： 1996年07月23日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】水素化反応用触媒及びその製造方法を提供し、1,4-ブタンジオール及び/又はテトラヒドロフラン等の製造方法を提供する。【解決手段】炭素質担体にRuとSn、さらに必要に応じて周期律表の他の第8族金属から選ばれる元素を組み合わせて担持した水素化反応用触媒であって、触媒の粒子の最大断面積を与える断面の最長径を、計測間隔が3μm、電子ビ-ム直径が2μmの条件でX線マイクロアナライザ-の線分析を行った場合の各測定点のRu強度を、全測定点のRu強度の平均値で割った値の度数分布をとった場合に、その平均値の50%未満の度数の占める割合が全体の35%未満であることを特徴とする水素化反応用触媒を製造するにあたり、あらかじめ硝酸と接触した炭素質担体を使用することを特徴とし、カルボン酸類を水素及び該水素化反応用触媒と接触させることを特徴とするカルボン酸類の水素化反応方法より成る。

請求項（抜粋）：

炭素質担体にRuとSn、又はこれらに必要に応じて周期律表の他のVIII族金属から選ばれる元素を組み合わせて担持した水素化反応用触媒であって、該触媒の粒子の最大断面積を与える断面の最長径の線を、計測間隔が3μm、電子ビ-ム直径が2μmの条件でX線マイクロアナライザ-の線分析を行った場合の各測定点のRu強度を、全測定点のRu強度の平均値で割った値の度数分布をとった場合に、その平均値の50%未満の度数の占める割合が全体の35%未満であることを特徴とする水素化反応用触媒。

IPC (4件)：

B01J 23/62 ,  C07C 29/157 ,  C07D307/08 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

B01J 23/62 Z ,  C07C 29/157 ,  C07D307/08 ,  C07B 61/00 300