特許

J-GLOBAL ID：200903083087694451

水浄化装置

発明者： 藤井 優子 ,  松本 朋秀 ,  桶田 岳見
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-289391
公開番号（公開出願番号）：特開平11-123383
出願日： 1997年10月22日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】 浴槽水中の細菌の殺菌能力が大きい塩素濃度を濃くすることができる水浄化装置を実現することを課題とする。【解決手段】 循環流路9に水を循環する循環手段12と、電気分解により金属水和物を生成することで水中の懸濁物質を凝集する凝集手段13と、その凝集した懸濁物質をろ過するろ過手段14と、前記循環流路9に水を供給する水供給手段15と、前記水供給手段15の水中に残留塩素を生成する塩素化合物供給手段16を設けることによって短時間で高濃度の残留塩素を生成して浴槽水に供給し塩素の生成効率が向上し、殺菌能力を向上することができる。

請求項（抜粋）：

循環流路に水を循環する循環手段と、電気分解により金属水和物を生成することで水中の懸濁物質を凝集する凝集手段と、前記凝集手段で凝集された懸濁物質をろ過するろ過手段と、前記循環流路に水を供給する水供給手段と、前記水供給手段の水中に残留塩素を生成する塩素化合物供給手段を設けた水浄化装置。

IPC (13件)：

C02F 1/46 ,  A47K 3/00 ,  B01D 35/027 ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76

FI (13件)：

C02F 1/46 Z ,  A47K 3/00 K ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/50 560 Z ,  C02F 1/76 A ,  B01D 35/02 J ,  C02F 1/46 102

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 水泳用プール水の殺菌消毒装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-002159   出願人：三菱樹脂株式会社
• 水浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-258130   出願人：松下電器産業株式会社
• 循環温浴器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-124735   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平3-293093
  
• 特開平3-293093