特許
J-GLOBAL ID:200903083094424109

超純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-224691
公開番号(公開出願番号):特開平8-089956
出願日: 1994年09月20日
公開日(公表日): 1996年04月09日
要約:
【要約】【目的】 高純度の超純水を安定に得る。【構成】 超純水製造装置の脱塩装置の後段にホウ素吸着樹脂塔を設ける。【効果】 従来の超純水製造装置では除去し得ない、超純水の純度低下の原因物質であるホウ素を効率的に除去することができ、高純度の超純水を安定かつ効率的に得ることが可能とされる。ホウ素吸着樹脂塔では、SiO2 の除去もなされ、後段の装置へのSiO2 負荷が軽減される。
請求項(抜粋):
脱塩装置を有する超純水製造装置において、該脱塩装置の後段にホウ素吸着樹脂塔を設けたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (2件):
C02F 1/42 ZAB ,  C02F 1/58 ZAB

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