ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076748
公開番号（公開出願番号）：特開2002-278054
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】解像力、粗密寸法差が優れ、更にPED安定性にも優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも1種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)下記一般式(1)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、下記一般式(2)〜(5)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(1)中、R1、R2は、炭素数1から16の置換基を有していても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、を表す。また、R1とR2は、炭素数2から8の置換基を有していても良いアルキレン鎖、アルケニレン鎖、アルキニリン鎖、または、置換基を有していても良いフェニレン、フリーレン、チエニレン、-O-、-S-、-N-、-CO-を含む連結鎖を介して、別の一般式(1)で表される化合物のR1またはR2と結合されていても良い。R3は炭素数1〜16個の置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していても良いアリール基を表す。【化2】一般式(2)〜(5)中、R4〜R6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を表す。R7は、炭素数3から16の置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表す。

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 , C08K 5/41 , C08L101/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 503 A , C08K 5/41 , C08L101/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (38件)：

2H025AA02 , 2H025AA11 , 2H025AB14 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J002BC081 , 4J002BC091 , 4J002BC101 , 4J002BC121 , 4J002BE041 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG091 , 4J002BG131 , 4J002EB116 , 4J002EF006 , 4J002EV216 , 4J002EV236 , 4J002EV256 , 4J002EV286 , 4J002EV296 , 4J002FD030 , 4J002FD200 , 4J002FD206 , 4J002FD310 , 4J002GP03

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