特許

J-GLOBAL ID：200903083101233799

真空成膜装置

発明者： 藤井 秀雄
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016548
公開番号（公開出願番号）：特開平8-188874
出願日： 1995年01月06日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】 ワークとモニタ用基板とを同じような位置関係で安定的に支持し、補正板の方を動かすように構成し、導電性薄膜の高精度な膜厚制御を行う。【構成】 蒸着釜10内に膜厚均一化用の補正板41を回転自在に設け、その上側にワークW及びモニタ用基板30を固定する。モニタ用基板に対応する天井部21部分に窓31を設ける。蒸着釜10の外部上方にモニタ用の光源33と光量検出器34を設ける。蒸着時に、窓31を通して、光源33からのモニタ光がモニタ用基板30に投光し、かつ反射したモニタ光が光量検出器34に受光し、モニタ用基板30の反射率、膜厚が検出され、それに対応するワークWの膜厚が精度良く求められる。

請求項（抜粋）：

所定の負圧下の真空状態に保持される容器と、この容器の内部底部に設けられた真空蒸着用の蒸発装置と、この蒸発装置の上方に可動的に設けられ、蒸着時に回転する膜厚均一化用の補正板と、この補正板の上側に固定的に設けられ、蒸着時に成膜されるワーク及びモニタ用基板が固定される基板ホルダと、前記容器の前記モニタ用基板に対応した部分に設けられたモニタ光通過用の窓部と、前記容器の外部に設置され、前記窓部を通して、モニタ用基板にモニタ光を投光し、かつ反射したモニタ光を受光し、ワークの膜厚を示すデータを計測する計測手段とを備えたことを特徴とする真空成膜装置。