特許
J-GLOBAL ID：200903083106029774

不飽和ケトン製造用触媒および不飽和ケトンの製造方法

発明者：
佐藤 智司

佐藤 智司 について

, 
高橋 亮治

高橋 亮治 について


出願人/特許権者：
チッソ株式会社

チッソ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-083071
公開番号（公開出願番号）：特開2005-262183
出願日： 2004年03月22日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 不飽和ケトンの製造に適した触媒と、ヒドロキシケトンから不飽和ケトンを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 アルカリ土属酸化物およびアルカリ土類金属酸化物を除く金属酸化物、例えば、酸化チタン、酸化チタン-金属酸化物複合物、二酸化ケイ素、二酸化ケイ素-金属酸化物複合物などを触媒として用いることにより、ヒドロキシケトンの脱水を効率的に行うことができる。すなわち、不飽和ケトンを効率的に製造できる。特に、1-ヒドロキシ-3-ブタノンからのメチルビニルケトンの製造などに適している。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ヒドロキシケトンを原料とし不飽和ケトンを製造する、アルカリ金属酸化物およびアルカリ土類金属酸化物を除く金属酸化物からなる不飽和ケトン製造用触媒。
IPC (8件)：
B01J21/06 ,  B01J21/04 ,  B01J21/08 ,  B01J21/10 ,  B01J21/12 ,  B01J23/10 ,  C07C45/66 ,  C07C49/203
FI (8件)：
B01J21/06 Z ,  B01J21/04 Z ,  B01J21/08 Z ,  B01J21/10 Z ,  B01J21/12 Z ,  B01J23/10 Z ,  C07C45/66 ,  C07C49/203 E
Fターム (66件)：
4G069AA02 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA06A ,  4G069BA06B ,  4G069BA20A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB06A ,  4G069BC10A ,  4G069BC11A ,  4G069BC15A ,  4G069BC20A ,  4G069BC24A ,  4G069BC29A ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069CB35 ,  4G069CB63 ,  4G069DA06 ,  4G169AA02 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA03A ,  4G169BA03B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BA06A ,  4G169BA06B ,  4G169BA20A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BC10A ,  4G169BC11A ,  4G169BC15A ,  4G169BC20A ,  4G169BC24A ,  4G169BC29A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169CB35 ,  4G169CB63 ,  4G169DA06 ,  4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006BA08 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA30 ,  4H006BA53 ,  4H006BB61 ,  4H039CA20 ,  4H039CG10
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 米国特許第1896161号明細書
  • 米国特許第2623073号明細書
  • 英国特許第640383号明細書
審査官引用 (5件)
  • 特開平2-149537
  • 特開平1-224357
  • 特開平2-149537
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