特許
J-GLOBAL ID：200903083124529806
シリカ除去機能を有する超純水製造システム
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-330309
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185544
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【目的】 シリカ除去機能を有する超純水製造システムを提供する。【構成】 アニオン交換基を有する多孔膜をイオン交換樹脂塔の後段に配置したことを特徴とするシリカ除去機能を有する超純水製造システムである。なお、アニオン交換基を有する多孔膜は三次元網目構造を有し、平均孔径が、0.01〜0.5μmであり、また内径0.05〜5mm、肉厚0.01〜2mmの中空糸状であることが好ましい。【効果】 半導体産業などにおける超純水製造システムにおいて、特に高純度の超純水を安定して供給することが要求されるサブシステムにおいて、シリカ濃度の低い超純水を安定して供給し、加えてイオン交換樹脂の通水期間を大幅に延長することが可能になる。
請求項（抜粋）：
アニオン交換基を有する多孔膜をイオン交換樹脂塔の後段に配置したことを特徴とするシリカ除去機能を有する超純水製造システム。
IPC (2件)：
C02F 1/42
, B01D 71/82 500
