特許
J-GLOBAL ID:200903083133098257

触媒の強化

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河備 健二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-563982
公開番号(公開出願番号):特表2005-525219
出願日: 2003年01月03日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
少なくとも一部が金属状態になるように、触媒を還元する工程;非酸化性雰囲気下で、少なくとも1種の金属の塩の溶液により含浸する工程であって、前記含浸溶液は、場合によりアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、弱有機酸およびアンモニアよりなる群から選択される少なくとも1種と組み合わされる工程;前記含浸溶液の存在下で、ガス状酸化剤により酸化する工程;および還元して活性触媒を製造する工程を含むことを特徴とする、一酸化炭素の水素添加用金属触媒を強化する方法が開示される。前記方法により強化される使用済み触媒を、まず触媒の炭化水素含有量を減少させるための処理に付す。前記処理を単一の反応器で実施することもでき、触媒を反応器から抜き出し、少なくとも1個の反応器に返送した後の、最大で全ての工程を実施することにより実施する(好ましくは、いずれも反応器の運転中に)こともできる。最大で全ての工程を、後続の反応器または特化した装置で行うこともできる。
請求項(抜粋):
一酸化炭素の接触水素添加用金属触媒を強化する方法であって、 前記触媒は、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、ReおよびPtよりなる群から選択される一種以上の成分を含み、 a)前記触媒の少なくとも一部が金属状態になるように、高温で水素含有ガスと接触させる工程; b)非酸化性雰囲気下で、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Os、lr、Re、Pt、Mo、W、Si、Cr、Ti、Mg、Mn、Zr、Hf、Al、Th、La、CeおよびYよりなる群から選択される少なくとも1種の金属の塩の溶液により含浸する工程であって、前記含浸溶液は、場合によりアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、弱有機酸およびアンモニアよりなる群から選択される少なくとも1種と組み合わされる工程; c)前記含浸溶液の存在下で、ガス状酸化剤により酸化する工程;および d)高温で、水素含有ガスにより還元して、活性触媒を製造する工程 含むことを特徴とする金属触媒を強化する方法。
IPC (7件):
B01J23/94 ,  B01J38/10 ,  B01J38/18 ,  B01J38/48 ,  B01J38/56 ,  C07C1/04 ,  C07C9/04
FI (7件):
B01J23/94 Z ,  B01J38/10 B ,  B01J38/18 ,  B01J38/48 C ,  B01J38/56 ,  C07C1/04 ,  C07C9/04
Fターム (95件):
4G069AA10 ,  4G069BA04B ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BC10A ,  4G069BC16A ,  4G069BC31A ,  4G069BC40A ,  4G069BC42A ,  4G069BC43A ,  4G069BC46A ,  4G069BC50A ,  4G069BC51A ,  4G069BC58A ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC62A ,  4G069BC64A ,  4G069BC64B ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BD05A ,  4G069CC23 ,  4G069DA06 ,  4G069DA08 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069GA01 ,  4G069GA02 ,  4G069GA05 ,  4G069GA06 ,  4G069GA09 ,  4G069GA18 ,  4G169AA10 ,  4G169BA04B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC10A ,  4G169BC16A ,  4G169BC31A ,  4G169BC40A ,  4G169BC42A ,  4G169BC43A ,  4G169BC46A ,  4G169BC50A ,  4G169BC51A ,  4G169BC58A ,  4G169BC59A ,  4G169BC60A ,  4G169BC62A ,  4G169BC64A ,  4G169BC64B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC73A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BD05A ,  4G169CC23 ,  4G169DA06 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02X ,  4G169EA02Y ,  4G169GA01 ,  4G169GA02 ,  4G169GA05 ,  4G169GA06 ,  4G169GA09 ,  4G169GA18 ,  4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006BA05 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA30 ,  4H006BA61 ,  4H006BA81 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H039CA11 ,  4H039CB40 ,  4H039CL35
引用特許:
出願人引用 (12件)
  • 米国特許第5,292,705号明細書
  • 米国特許第6,201,030号明細書
  • 米国特許第4,888,131号明細書
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