特許
J-GLOBAL ID：200903083135619858
エレクトロスプレイ型イオン源及びこれを用いた集束イオンビーム装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-305162
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161322
出願日： 1993年12月06日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】各種不活性ガスや酸素、窒素などのイオンを高輝度に放射するエレクトロスプレイ型イオン源と、これを搭載した集束イオンビーム装置を実現し、上記イオン材料による集束イオンビームによって、半導体などの表面の微小領域に汚染を与えることなしに微細加工、分析、あるいは計測を行う方法を確立する。【構成】断熱性の真空容器28の中にある冷却槽10の中に設けられ、低温に保持されたイオン材料槽4内に不活性ガスや酸素、窒素などの液体イオン材料1を充填し、貯溜部5のキャピラリ6の先端とそれに対向する引出し電極19との間に高電圧を印加することによって、イオン材料1を荷電液滴20として引き出し、さらにキャリアガス3の噴射によってさらに小さなクラスタイオンとして、集束イオンビーム系内に放射する。
請求項（抜粋）：
液体のイオン材料、該イオン材料を貯溜する貯溜部、上記イオン材料をイオン化領域に導くための金属製キャピラリ、該金属製キャピラリの先端に電界を集中させるための引出し電極、を有するエレクトロスプレイ型イオン源において、少なくとも上記イオン材料を低温に保持するための冷却手段を有することを特徴とするエレクトロスプレイ型イオン源。
IPC (3件)：
H01J 37/08
, G01N 1/28
, H01J 27/26
