特許

J-GLOBAL ID：200903083144911898

酸化物超電導原料溶液の塗布装置及びその塗布方法

発明者： 青木 裕治 ,  高橋 保夫 ,  長谷川 隆代
出願人/特許権者： 昭和電線電纜株式会社 ,  財団法人国際超電導産業技術研究センター
代理人 (1件)： 守谷 一雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342392
公開番号（公開出願番号）：特開2003-141953
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 揮発性の高い溶媒を用いた原料溶液を基材表面に塗布して均一な膜厚を有する塗膜を安定して形成する。【解決手段】 内部に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液5を収容するための密閉容器1と、この密閉容器の外部に形成された溶液塗布部2と、密閉容器を貫通し一端側が原料溶液の液面下に開口し多端側が溶液塗布部に開口する複数の細管3とを設け、原料溶液を複数の細管の毛細管現象を利用して溶液塗布部へ供給し、走行するテープ状基材6との間に液体メニスカスを形成することにより基材表面に連続的に原料溶液を塗布する。

請求項（抜粋）：

内部に揮発性溶媒を用いた酸化物超電導物質の原料溶液を収容するための密閉容器と、前記密閉容器の外部に形成された溶液塗布部と、前記密閉容器を貫通し一端側が前記原料溶液の液面下に開口し多端側が前記溶液塗布部に開口する複数の細管と、前記溶液塗布部に対して所定の間隔を維持して連続的にテープ状基材を移動せしめるテープ移動機構とからなることを特徴とする酸化物超電導原料溶液の塗布装置。

IPC (5件)：

H01B 13/00 565 ,  B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00 ,  H01B 12/06 ZAA

FI (5件)：

H01B 13/00 565 D ,  B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 7/00 A ,  H01B 12/06 ZAA

Fターム (21件)：

4D075AC11 ,  4D075AC72 ,  4D075CA47 ,  4D075DA04 ,  4D075DC18 ,  4D075EA07 ,  4D075EA60 ,  4F041AA12 ,  4F041AB02 ,  4F041BA12 ,  4F041BA32 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  5G321AA01 ,  5G321AA02 ,  5G321AA04 ,  5G321CA18 ,  5G321CA21 ,  5G321CA24 ,  5G321DA12 ,  5G321DB21

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 塗布ノズルおよび塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-201889   出願人：大日本スクリーン製造株式会社