特許
J-GLOBAL ID：200903083146803820
プラズマ溶射トーチ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塚本 正文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-210906
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036890
出願日： 1992年07月15日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 溶射粉体のプラズマジェットへの軸心供給及びプラズマの安定性を損なうことなく、陰極への溶射粉体の付着や陰極の溶損を防止する。【構成】 先端にプラズマジェット噴口3を有するプラズマ発生チャンバー2が設けられるとともに基部に絶縁体4が接合されかつプラズマ発生チャンバー2に通ずる作動ガス供給路5が設けられた陽極1と、絶縁体4の中心部に貫設され先端がプラズマ発生チャンバー2内にありかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路8が設けられた陰極9とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、陰極9が冷却水通路10を設けた銅製陰極9とその先端のHfC又はZrC12とから構成され、かつプラズマ発生チャンバー2内の陰極内面にTiCコーティング膜13が形成されている。
請求項（抜粋）：
先端にプラズマジェット噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設けられるとともに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズマ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、上記陰極が冷却水通路を設けた銅製陰極とその先端のHfC又はZrCとから構成され、かつプラズマ発生チャンバー内の陰極内面にTiCコーティング膜が形成されたことを特徴とするプラズマ溶射トーチ。
IPC (4件)：
H05H 1/34
, C23C 4/00
, C23C 4/12
, H05H 1/42
