特許

J-GLOBAL ID：200903083155727614

真空処理装置および真空処理方法

発明者： 小沢 誠
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223090
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050256
出願日： 1997年08月05日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】ロードロック室のリーク、エバック動作の待ち時間を有効に利用し稼働率を向上させることができる真空処理装置および方法を提供する。【解決手段】プロセスチャンバ群10の搬入側にロードロック室30、40を並列に2つ設け、搬出側にもロードロック室130、140を並列に2つ設ける。搬入側の2つのロードロック室30、40を交互に動作させ、また搬出側のロードロック室130、140も交互に動作させる。

請求項（抜粋）：

被処理物の搬入部および搬出部を備えた真空処理室と、少なくとも2つの真空予備室であって、前記真空処理室の前記搬入部および前記搬出部のうちのいずれか一方に、または前記搬入部と前記搬出部とが兼用されている場合には前記兼用されている前記搬入部および前記搬出部に、並列に連通可能に設けられた前記少なくとも2つの真空予備室と、を有することを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

C23C 16/44 B ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68 A