特許

J-GLOBAL ID：200903083158525036

レジスト塗布システム

発明者： 佐藤 政一
出願人/特許権者： 株式会社日本オート技研工業
代理人 (1件)： 荒井 潤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-043120
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237665
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】 ドライフィルムを用いずに液状レジストを用いて微細パターンを形成可能とし、かつ効率よくスルーホール内面と基板表面にレジストを塗布することができるコンパクトな構成のレジスト塗布システムを提供する。【解決手段】 基板のスルーホールの内面に液状レジストを塗布する第1のコーター部3,4,5と、この第1のコーター部に連続して前記基板の表面に液状レジストを塗布する第2のコーター部7,8,9とを備えた。

請求項（抜粋）：

基板のスルーホールの内面に液状レジストを塗布する第1のコーター部と、この第1のコーター部に連続して前記基板の表面に液状レジストを塗布する第2のコーター部とを備えたことを特徴とするレジスト塗布システム。

IPC (3件)：

B05C 9/06 ,  H05K 3/06 ,  G03F 7/16 501

FI (3件)：

B05C 9/06 ,  H05K 3/06 F ,  G03F 7/16 501

Fターム (10件)：

2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025EA04 ,  4F042AA06 ,  4F042ED02 ,  5E339AC01 ,  5E339AD03 ,  5E339CE02 ,  5E339CE05 ,  5E339CF16