特許
J-GLOBAL ID：200903083164998370
ジシクロペンタジエンの反応射出成形方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-144854
公開番号（公開出願番号）：特開平5-309684
出願日： 1992年05月11日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：
【要約】【目的】 金型中の成形品の表面にアバタ状の凹凸部をでき難くして、成形品を成型後に例えばパテ埋めや研削によって補修する必要もない成形品を、低コストで成形することを図る。【構成】 ジシクロペンタジエンの反応性溶液を上型06の内面にサンドブラスト法により微細な凹凸08を形成させた成形用金型05に注入し、硬化させてジシクロペンタジエン成形品を得る。
請求項（抜粋）：
ジシクロペンタジエンと触媒を含有する反応原液を成形型内に注入して反応射出成形を行う方法において、型内面の一部に微細な凹凸を形成した成形型を使用することを特徴とするジシクロペンタジエンの反応射出成形方法。
IPC (5件)：
B29C 45/00
, B29C 33/38
, B29C 33/42
, B29C 45/37
, B29K 55:00
