特許
J-GLOBAL ID：200903083166891610
ガスプラズマ処理を監視しかつ管理するためのシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外7名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-512165
公開番号（公開出願番号）：特表2001-516963
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：
【要約】本システムおよび方法は、システムへ供給されたRF電力(2A,2B,2C)を変動または変調させる一方で、ガスプラズマ処理システムにおける状態を監視し、この結果として生じる前記システムの電気回路の信号は、システムの演算パラメータまたは処理の状態に関する情報をもたらす。これにより、従来技術に対して感度および正確さの著しい向上が達成される。さらに、供給前に、プラズマ処理システムを徹底的にテストしかつ特徴づけることができ、これにより、モニタ制御装置(1)によるさらに正確な監視と、より広範な処理管理が可能となる。これにより、システムにより製造されている基板(40)の品質管理保証が改善される。オペレータがシステム/処理を正確に監視しかつシステム/処理に関するあらゆる問題を診断することを可能とするために、変調技術により得られた情報をモニタスクリーンに表示することができる。
請求項（抜粋）：
電源と、 前記電源からプラズマへ電力を供給するための第1プラズマ結合素子と、 前記電力の振幅、周波数、位相のうち少なくとも1つを変動させるための電力変動制御装置と、 前記第1プラズマ結合素子の応答信号を受け取るための監視センサとを具備するプラズマシステムであって、 前記応答信号は、前記電力変動制御装置により生じることを特徴とするシステム。
Fターム (5件)：
5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004CA03
, 5F004CB05
