特許
J-GLOBAL ID：200903083169874318
半導体製造システムのプロセスコントローラ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160544
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338856
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 一層精密な制御が可能で、しかもそのような制御の開発が容易に行える半導体製造システムのプロセスコントローラの実現。【解決手段】 複数のプロセス装置13と、処理されたウエハの状態を測定する計測機16とを備える半導体製造システムにおいて、ホストコンピュータ11に接続され、各プロセス装置13を制御するプロセスコントローラ21であって、センサの検出データの入力及び制御信号の出力のための入出力ポート30と、計測機からの計測データの入力ポート25と、開発プロセス時にプロセス装置の状態を検出するためのプロセス開発用センサ17の開発検出データの入力ポート23と、検出データ、開発検出データ及び計測データに基づいて、制御シーケンスを決定するプロセス開発処理手段28とを備える。
請求項（抜粋）：
複数のプロセス装置と、少なくとも一部の前記プロセス装置で処理されたウエハの状態を測定する計測機とを備える半導体製造システムにおいて、当該半導体製造システム全体を制御するホストコンピュータに接続され、各プロセス装置を制御するプロセスコントローラであって、前記プロセス装置に設けられたセンサの検出データの入力ポートと、前記プロセス装置の制御信号を出力する出力ポートと、前記プロセス装置で処理されたウエハの状態を測定する前記計測機からの計測データの入力ポートと、前記プロセス装置の制御シーケンスを決定する開発プロセス時に、前記センサで検出する以外の前記プロセス装置の状態を検出するためのプロセス開発用センサの開発検出データの入力ポートと、前記検出データ、前記開発検出データ及び前記計測データに基づいて、前記制御シーケンスを決定するプロセス開発処理手段とを備えることを特徴とする半導体製造システムのプロセスコントローラ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G05B 15/02 Z
5H215AA06
, 5H215CC01
, 5H215CC07
, 5H215CC09
, 5H215CX01
, 5H215CX05
