カップリングしたブロックコポリマー及び該ブロックコポリマーの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-575921
公開番号（公開出願番号）：特表2003-522215
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：

【要約】本発明は、カップリングしたブロックコポリマーを製造する方法及び該カップリングしたブロックコポリマーを提供する。

請求項（抜粋）：

カップリングしたブロックコポリマーを製造する方法であって、(1)希釈剤、極性化合物、開始剤(I1)、及びモノビニルアレーン(S1)を重合ゾーンに仕込み、第1混合物を形成する工程、(2)溶液重合条件下において、上記モノビニルアレーン(S1)を、上記第1混合物中に未重合モノビニルアレーンが実質上残存しなくなるまで重合させて、S1-I1を含有する第2混合物を形成する工程、(3)共役ジエン(B1)を、上記第2混合物に仕込み、第3混合物を形成する工程、(4)溶液重合条件下において、上記共役ジエン(B1)を、上記第3混合物中に未重合共役ジエンが実質上残存しなくなるまで重合させて、S1-B1-I1を含有する第4混合物を形成する工程、(5)モノビニルアレーン(S2)を、上記第4混合物に仕込み、第5混合物を形成する工程、(6)溶液重合条件下において、上記モノビニルアレーン(S2)を、上記第5混合物中に未重合モノビニルアレーンが実質上残存しなくなるまで重合させて、S1-B1-S2-I1を含有する第6混合物を形成する工程、(7)開始剤(I2)及びモノビニルアレーン(S3)を、上記第6混合物に仕込み、第7混合物を形成する工程、(8)溶液重合条件下において、上記モノビニルアレーン(S3)を、上記第7混合物中に未重合モノビニルアレーンが実質上残存しなくなるまで重合させて、S1-B1-S2-S3-I1及びS3-I2を含有する第8混合物を形成する工程、(9)共役ジエン(B2)を、上記第8混合物に仕込み、第9混合物を形成する工程、(10)溶液重合条件下において、上記共役ジエン(B2)を、上記第9混合物中に未重合共役ジエンが実質上残存しなくなるまで重合させて、S1-B1-S2-S3-B2-I1及びS3-B2-I2(これらはブロックコポリマーである)を含有する第10混合物を形成する工程、(11)カップリング剤(C)を、上記第10混合物に仕込み、第11混合物を形成する工程、(12)上記ブロックコポリマーをカップリングさせて、第12混合物を形成する工程、を含む、上記方法。

IPC (3件)：

C08F297/04 , C08J 5/00 CER , C08L 53:02

FI (3件)：

C08F297/04 , C08J 5/00 CER , C08L 53:02

Fターム (20件)：

4F071AA12X , 4F071AA22X , 4F071AA75 , 4F071AF23 , 4F071BA01 , 4F071BB05 , 4J026HA06 , 4J026HA26 , 4J026HA32 , 4J026HA39 , 4J026HB15 , 4J026HB16 , 4J026HB32 , 4J026HB39 , 4J026HC05 , 4J026HC39 , 4J026HC45 , 4J026HC47 , 4J026HC50 , 4J026HE05

前のページに戻る