特許

J-GLOBAL ID：200903083179827822

感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法

発明者： 千葉 達男 ,  市川 立也
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-181489
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013681
出願日： 1999年06月28日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 レジストパターンの側面ギザ性、解像度、密着性及びレジストパターンの平坦性が極めて優れ、マウスバイトの数が少ない感光性エレメント、レジストパターン及びプリント配線板の製造法を提供する。【解決手段】 二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントにおいて、前記感光性樹脂組成物の層の波長365nmの紫外線に対する透過率が5〜75%である感光性エレメント、この感光性エレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物の層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層した支持フィルムの前記樹脂層を形成した反対の面に感光性樹脂組成物の層を塗布、乾燥してなる感光性エレメントにおいて、前記感光性樹脂組成物の層の波長365nmの紫外線に対する透過率が5〜75%である感光性エレメント。

IPC (7件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501 ,  H05K 1/03 610 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

FI (7件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501 ,  H05K 1/03 610 M ,  H05K 3/06 J ,  H05K 3/18 D

Fターム (38件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC12 ,  2H025BC31 ,  2H025BC51 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CC12 ,  2H025DA18 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H025FA40 ,  2H025FA43 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE14 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339FF10 ,  5E339GG10 ,  5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343BB21 ,  5E343CC62 ,  5E343DD32 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08