特許

J-GLOBAL ID：200903083183937519

薄膜構造体用絶縁膜

発明者： ルナール トルンクヴィスト ,  トゥオマス ピトケネン
出願人/特許権者： プラナール システムス インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 岡部 正夫 (外13名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213206
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058269
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 クラックに対する良好な抵抗性を有する、薄膜構造体用絶縁膜を提供する。【解決手段】 本発明は、酸化アルミニウムと酸化チタンの交互の層からなる、実質的にアルカリ金属を含まないガラス基板上に堆積された薄膜構造の絶縁膜、ならびにエレクトロルミネセンスデバイスに関し、その絶縁膜がケイ光物質層と誘電体層との間に絶縁層として挿入されている。この絶縁層においては、酸化チタンの累積厚さと酸化アルミニウムの累積厚さの比は0.75より小さい。

請求項（抜粋）：

実質的にアルカリ金属を含まないガラス基板上に堆積された薄膜構造の絶縁膜であって、酸化アルミニウムと酸化チタンの交互の層からなり、酸化チタン層の累積厚さと酸化アルミニウム層の累積厚さの比が0.75より小さいことを特徴とする絶縁膜。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電場発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-244092   出願人：富士電機株式会社
• 特開昭58-206095
  
• 特開昭58-206095