特許
J-GLOBAL ID:200903083189231391

エキシマレーザ装置のガス補給方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木村 高久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-320567
公開番号(公開出願番号):特開平6-169120
出願日: 1992年11月30日
公開日(公表日): 1994年06月14日
要約:
【要約】【目的】この発明は、ガス補給を多く重ねていってもガスの最適組成バランスが崩れにくく、またガス補給時点やガス補給量を適格に決定し得るエキシマレーザ装置のガス補給方法を提供することを目的とする。【構成】この発明では、レーザチャンバ内にハロゲンガス、希ガス、バッファガスを注入してレーザ発振を行うエキシマレーザ装置のガス補給方法において、バッファガスで希釈されたハロゲンガスの補給の際、レーザチャンバ内の全ガス圧を一定に保つためのガス排気工程を省略するようにしたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
レーザチャンバ内にハロゲンガス、希ガス、バッファガスを注入してレーザ発振を行うエキシマレーザ装置のガス補給方法において、バッファガスで希釈されたハロゲンガスの補給の際、レーザチャンバ内の全ガス圧を一定に保つためのガス排気工程を省略するようにしたことを特徴とするエキシマレーザ装置のガス補給方法。

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